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产品参数
针对微米、亚微米颗粒的高精密清洗设备
产品特点：
1. 能满足其他大型清洗设备所不能达到的清洗需求。
2. 操作简单 通电即可运行，便捷易上手，可用于长时间作业。
产品应用领域：
1. 半导体材料、电子电路、芯片制备及3C硬件产业。
2. 芯片、电极、磁头、磁盘以及各种微电子产品.
产品优势：
全封闭超净间设计
长焦深设计
可定制平台
基本参数：
设备型号/Model | RL-UQ5-A | RL-UQ10-A | RL-UQ20-A |
输出功率/Average output power | 5W | 10W | 15W |
功率调节范围/Output tunability | 10-100%（连续可调） | ||
功率稳定性/Stability | <3% | ||
冷却方式/Cooling | 水冷 | ||
电力要求/Power supply | 单相220V±10% 50-60Hz | ||
环境湿度/Operating humility | 20%-80% | ||
场镜焦距/Focal length | 50mm-500mm（可选） | ||
扫描路径/Scanning path | 5种任选 | ||
有效焦深/Rayleith length | 20mm(可定制) | ||
